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UV-LIGA的MEMS磁阻传感器芯片的线圈工艺研究(4)

时间:2022-12-03 20:45来源:毕业论文
(3)系统集成化 一般的传感器有较弱的输出信号,如果连接到外部电路,这将覆盖有用信号,所以使用灵敏元件外部处理单元只有将两个集成在一起才有

(3)系统集成化

一般的传感器有较弱的输出信号,如果连接到外部电路,这将覆盖有用信号,所以使用灵敏元件外部处理单元只有将两个集成在一起才有更好的性能。另外,由于微小的MEMS的脆弱结构通常毁坏在传送和包装的过程。因此,MEMS制造和包装的整合也将受到人们的追求目标[10]。论文网

(4)生物微机电系统

MEMS技术是指在制造技术的领域中的微生物学应用,它已成为MEMS技术研究的重要领域。包括生物医药、疾病诊断、药物注射和手术治疗等方面的发展。由于微机电具有可以大规模生产、成本低、独特的功能、体积小、重量轻等优点,它被认为是即将到来的重要领域。

(5)纳机电系统NEMS

在集成电路的领域,因为摩尔定律已经从微米尺寸迈入到纳米级。在MEMS领域,随着研究的深入,从MEMS到NEMS这是一个必然的趋势。目前,由于MEMS加工技术的进步,加工精度的增加,以促进亚微米向深亚微米发展。在MEMS当代研究的一些有益的经验,正在逐步被NEMS研究所吸收,我们相信在不久的将来NEMS设备将逐步走向市场。

1。1。4 MEMS市场预测

据美国市场研究机构Yole预测(图1-2),从2007到2012,MEMS市场将以年均14%的速度增长。2012年市场销售额预计将达到140亿美元,将是2007年的两倍。2007至2010的预计增长率是11%,而2010年之后将快速增长。射频微电子机械系统将具有最高的增长率(50%),其次是药物输送微流体芯片(42%),硅麦克风(32%)和疾病诊断的微流体芯片(23%),微探头(22%)和微测试辐射加热装置(20%)。当然,一般认为,目前市场上仍是微机械加速度计、陀螺仪、喷墨打印机头和应力传感器在支撑着市场。现在,在该领域的一些国际公司都在关注MEMS与CMOS的组合,常规的CMOS工艺的CMOS MEMS将逐步显现,所以芯片级封装(WLP)在未来几年MEMS市场将呈现一个大的飞跃式增长(图1-3)。

图1-2 产品细分下的MEMS市场预测

图1-3 3D-WLP MEMS市场预测

1。2 MEMS及磁阻传感器国内外研究现状

1。3 本文的研究目的和意义

本文研究的目的和意义是可以在定位导航技术、自动跟踪技术、卫星、飞机、导弹、勘探与探测方面取得巨大的发展,通过磁阻传感器的小集成化和精准的特点在定位方面会有巨大的提升。未来在探矿、地下钻孔、位置检测、航海等方面会有巨大的用途。因此,通过MEMS微加工技术进行磁阻传感器的制备,可以实现期小型化、便携化和集成化方面的要求,以适应未来微型器件的发展趋势。

1。4 主要研究内容

  (1)了解MEMS磁阻传感器工作原理;

  (2)掌握MEMS磁阻传感器的设计方法;

  (3)利用UV-LIGA技术进行电感线圈的制备;

  (4)做电镀工艺试验。

第二章  MEMS磁阻传感器的原理和设计

2。1 MEMS磁阻传感器的原理

磁性材料(如钼合金)与各向异性,当它被磁化时其磁化方向将取决于材料的易磁化轴。若是将该材料应用于磁场,它将使原来的磁化方向旋转。如果磁化方向与电流方向垂直移动,材料的电阻将减小,如果磁化方向与电流方向偏移,则会增加材料的电阻。传感器通常有四个这样的电阻并且被连接成电桥。在被测磁场的作用下,在电桥的相对位置的阻值增加,另两个附加电阻的阻值减小。在其线性范畴内,电桥的输出电压与所测得的磁场是成正比的。

磁阻传感器具有下列特征:

磁场范围宽:最小可以检测85高斯,范围是±6高斯。 UV-LIGA的MEMS磁阻传感器芯片的线圈工艺研究(4):http://www.youerw.com/cailiao/lunwen_105062.html

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