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亚表面损伤测量的研究现状

时间:2018-05-30 15:23来源:毕业论文
光学元件损坏的原因是光学元件的缺陷,而这些缺陷是在光学元件的表面生产、加工过程,如研磨、抛光等工序中产生的。激光在对光学元件表面的薄膜进行照射,或者当激光的功率过

光学元件损坏的原因是光学元件的缺陷,而这些缺陷是在光学元件的表面生产、加工过程,如研磨、抛光等工序中产生的。激光在对光学元件表面的薄膜进行照射,或者当激光的功率过大时,会对薄膜或元件造成损害。因此,随着激光技术的进步,元件的质量也待提高。[1]23514
光学元件的亚表面损伤是怎样产生的?这主要归结为接触式的加工方法。这种传统的加工方式会在元件表面产生压力,压力会使得元件表面或表面下产生缺陷,包括划痕、杂质或微裂纹等。
亚表面损伤的范围主要在元件表面以下几百纳米到几百微米之间。美国劳伦斯﹒利弗莫尔实验室给出了一种亚表面层理论模型,他们指出,光学元件表面结构分为四个部分,分别为,主要在抛光阶段形成的深度在0.1〜1m的抛光层;主要在研磨加工阶段形成的深度在1〜100m的缺陷层;主要在成型阶段形成的深度在100〜200m的变形层以及光学材料本体。论文网[2]
所以说,在激光损伤高阈值的现状下,光学元件制造迫切需要对光学元件深度和形貌各异的亚表面损伤缺陷进行有效检测,在此基础上进行元件的加工和控制。 亚表面损伤测量的研究现状:http://www.youerw.com/yanjiu/lunwen_16611.html
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